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光学光刻是一种通常用于制造计算机芯片的化学工艺。通常由硅制成的扁平晶片上蚀刻有图案,以形成集成电路。通常,该工艺涉及在晶圆上涂覆化学抗蚀剂材料。然后移除抗蚀剂以显示电路图案,并蚀刻表面。去除抗蚀剂的方法包括将光敏抗蚀剂暴露于可见光或紫外线(UV)光下,这就是术语“光学光刻”的来源。。...