什么是纳米光刻？(nanolithography?)
纳米光刻技术是一个术语，用来描述一系列创造难以置信的小结构的技术。所涉及的尺寸约为几十纳米（nm）。纳米是十亿分之一米，比一根头发的宽度小得多。之所以使用“光刻”一词，是因为图案生成的方法基本上与书写相同，只是规模小得多。
一种常见的纳米光刻技术被称为光刻技术，尤其是在制作微芯片时使用。这种技术是一种平行的纳米光刻方法，在一瞬间绘制出整个表面。然而，光刻技术的尺寸有限，因为如果使用的光的波长太小，透镜就会完全吸收光。这意味着光刻技术无法达到某些替代技术的超精细尺寸。。
电子束光刻是一种比光刻更小尺寸的技术。使用电子束一纳米一纳米地绘制图案，可以获得令人难以置信的小尺寸（大约20纳米）。然而，电子束光刻技术比光刻技术更昂贵、更耗时，这使得纳米光刻技术的工业应用很难销售。由于电子束光刻的功能更像一台点阵打印机，而不是一张闪光照片，因此使用光刻技术需要五分钟的工作将使用电子束光刻技术需要五个小时以上。。
新的纳米光刻技术不断被研究和开发，导致可能的尺寸越来越小。例如，极紫外光刻技术可以使用波长为13.5nm的光。虽然在这个新领域仍然存在障碍，但它承诺尺寸可能远远低于当前行业标准。其他纳米光刻技术包括浸笔纳米光刻，其中一个小尖端用于在表面上沉积分子。浸笔纳米光刻技术可以实现非常小的尺寸，但目前无法达到40nm以下。。
纳米光刻技术研究的资金来自多个地方，包括私人学术界、着眼于下一代纳米技术的未来主义公司，以及希望将芯片缩小到远低于当前尺寸的老牌计算机芯片制造商。随着工业部门对纳米技术兴趣的增长，纳米光刻领域的资金和研究无疑将扩大，从而产生更熟练的技术，甚至更低的尺寸限制。
- 发表于 2022-02-08 19:07
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- 分类：科学
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