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真空沉积这一术语描述了一组旨在将单个粒子,特别是原子和分子,铺设到表面的工艺。这些过程是在真空中进行的,以防止任何干扰或与气体粒子(如氧气)发生反应,因为氧气可能是高度活性的。应用于表面的非常薄的物质层被称为薄膜,而较厚的层被称为涂层。真空沉积可以达到许多不同的目的,如将导电层沉积到表面或保护金属免受腐蚀。这个过程也经常被用于各种汽车部件,以达到防止生锈和腐蚀等各种目的。...
化学气相沉积(CVD)是一种化学工艺,使用反应性气体室来合成高纯度、高性能的固体材料,如电子元件。 集成电路的某些组件需要由多晶硅、二氧化硅和氮化硅等材料制成的电子元件。 化学气相沉积工艺的一个例子是用硅烷(SiH4)合成多晶硅,使用这种反应。...