NMOS和PMOS是两种不同类型的mosfet。NMOS和PMOS的主要区别在于,在NMOS中,源极和漏极端子由n型半导体构成,而在PMOS中,源极和漏极由p型半导体构成。
MOSFET是一种用于电子学的单极晶体管。MOSFET代表“金属氧化物半导体场效应晶体管”。本质上,在MOSFET中,从一个端子到另一个端子(源极和漏极)的电流由施加在“栅极”端子上的电压决定。电流在称为“大体积”区域的区域内流动。本文解释了MOSFET的工作原理。根据构成不同终端的半导体类型,mosfet分为NMOS和PMOS。
在NMOS器件中,源极和漏极由n型半导体制成,而体部由p型半导体制成。当栅极被给予正电压时,两个n型区之间的空穴被排斥,允许电子在源极和漏极之间流动。下图显示了MOSFET的结构。
The structure of an NMOS MOSFET
NMOS器件中的大多数载流子是电子,它们的流动速度比空穴快得多。结果,NMOS晶体管比相应的PMOS器件小。因此,NMO的生产成本也比PMO低。由于电子比空穴快,nmos在快速开关应用中也更有用。例如,NMOS曾被用于逻辑门,尽管现在它们基本上已被包含NMOS和PMOS的组合的“cmos”所取代。
MOSFET中的大多数污染物都带正电。这给NMOS带来了一个缺点,因为这些污染物在栅极周围的累积可能会在NMOS设备应该关闭时打开它。
在PMOS器件中,源极和漏极是由p型材料制成的,而体是由n型半导体制成的。当对栅极施加负电压时,电子被排斥,因此空穴能够形成通道并在源极和漏极之间移动。在PMOS中,大多数载流子是空穴。空穴的流动速度比电子慢得多,因此更容易控制电流。
在NMOS中,源极和漏极由n型半导体构成,而体部由p型半导体构成。
在PMOS中,源极和漏极是由p型半导体制成的,而主体是由n型半导体制成的。
在NMOS中,大多数载流子是电子。
在PMOS中,大多数载流子是空穴。
与具有互补导电特性的PMOS器件相比,NMOS器件相对较小。
与PMOS设备相比,NMOS设备的切换速度更快。
Image Courtesy:
“MOSFET structure” by Brews ohare (Own work) [CC BY-SA 3.0], via Wikimedia Comm***
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