什么是光罩？(a photomask?)
光刻掩模是用于光刻工艺的不透明板。不透明表面上的开口或孔被布置成允许光线穿过，从而将图案从光罩转移到另一种材料上，例如纸张。光掩模通常用于制造半导体，它们将集成电路的图像和排列精确地传输到电路板上。这个过程被称为光刻。
光掩模在我们社会先进技术的发展中起着极其重要的作用。现代技术需要更小的组件，这使得诸如非常小的手持式计算机和其他小型技术等设备得以存在。如果没有光刻机或光刻机，这些设备中电路和芯片的排列就无法准确传输。
光掩模的设计由芯片制造商决定，芯片制造商通过多种语言和媒介描述其确切细节。由于每个制造商的独特设计规范，生产光罩的公司必须对设计有透彻的了解。制作光掩模最重要的部分之一是掩模本身。在大多数情况下，由于其精确性和低故障率，口罩由高质量的铬制成。
光掩模在半导体生产中起着至关重要的作用，这需要光刻程序。配备高光圈透镜的现代平版印刷工具用于通过光掩模传输光。从这些设备投射的光穿过光掩模内的图案照射到硅片上。晶圆表面有光刻胶，这是一种光敏材料。然后使用负性光刻胶去除材料的遮罩部分；为了逆转这一过程，使用了正性光刻胶。。
芯片的每一层都需要一个独特的光罩。大多数半导体至少有30层，因此每个半导体至少需要30个独特的光掩模。然而，光掩模远不止是在芯片上追踪图案的一种方式。这是因为电路布局非常精确，它们的模式必须尽可能准确地传输。光刻技术允许极其精确的设计传输。
光罩有助于计算机芯片的小型化。这是因为较小的芯片需要其总体布局的高精度图像，如果没有光刻工艺，这几乎是不可能的。没有光罩，小型手持式计算机几乎是不可能的，因为它们的小型电路和芯片需要精确的排列。
- 发表于 2022-01-29 07:06
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- 分类：科学
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