【光刻工艺】的知识问答

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什么是光罩？(a photomask?)

光刻掩模是用于光刻工艺的不透明板。不透明表面上的开口或孔被布置成允许光线穿过，从而将图案从光罩转移到另一种材料上，例如纸张。光掩模通常用于制造半导体，它们将集成电路的图像和排列精确地传输到电路板上。这个过程被称为光刻。...

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伤心彻底发布于 2022-01-29 07:06

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什么是铜蚀刻？(copper etching?)

铜蚀刻是一种选择性去除过程，用于在铜板上创建图像。大多数蚀刻工艺需要一块覆盖着非反应性材料的板，然后选择性地将其去除。该板暴露在腐蚀性介质中，去除少量铜，同时不受保护区域的影响。在过去，这是用蜡和不同的酸来完成的。现代铜蚀刻通常使用毒性较小的材料，如三氯化铁，而不是酸和碳酸钠来去除铜。现代蚀刻技术被用于从艺术表达到油墨印刷，再到在电路板上铺设通路的各个方面。。...

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aegh0836 发布于 2022-01-29 06:29