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铜蚀刻是一种选择性去除过程,用于在铜板上创建图像。大多数蚀刻工艺需要一块覆盖着非反应性材料的板,然后选择性地将其去除。该板暴露在腐蚀性介质中,去除少量铜,同时不受保护区域的影响。在过去,这是用蜡和不同的酸来完成的。现代铜蚀刻通常使用毒性较小的材料,如三氯化铁,而不是酸和碳酸钠来去除铜。现代蚀刻技术被用于从艺术表达到油墨印刷,再到在电路板上铺设通路的各个方面。。...